纳米图像电子束曝光系统
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仪器设备
- 仪器设备基本信息
| 仪器设备名称： | 纳米图像电子束曝光系统 | 英文名称： | Nano image electron beam exposure system |
| 所属单位： | 无 | 启用日期： | |
| 原值： | 306.7702 | 产地国别： | 捷克 |
| 仪器设备来源： | 仪器设备类别： | ||
| 仪器大类： | 分析仪器 | 仪器中类： | 电子光学仪器 |
| 仪器小类： | 扫描电镜 | ||
| 主要技术指标： | 分辨率：1 nm 元素分析范围：Be (4) －Am (95) | ||
| 主要功能： | 主要特点 1. 超高分辨率Schottky场发射电子枪 2. 全球唯一的超高分辨率低真空场发射扫描电镜. 具有高真空和低真空(<200Pa)两种真空模式. 3. 对容易污染、容易电荷积累的纳米材料和纳米器件进行观察和分析 4. 完全无油真空系统 5. 可选配电子束曝光、电子束诱导沉积等纳米设计/加工功能 6. FEI公司基于Windows XP的-xT用户界面 | ||
| 主要学科领域： | |||
- 仪器设备服务信息
| 服务领域： | 应用行业： | ||
| 服务内容（分析测试项目等）： | 无 | 参考收费标准： | 无 |
| 服务时间： | |||
| 服务资料： | |||
| 服务预约网址： | |||
- 联系人信息
| 姓名： | 王婉秋 | 电话： | 无 |
| 通讯地址： | |||
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- 实验服务
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